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濺射靶材作為一種用于制備薄膜的材料，在半導體工業中扮演著關鍵角色。 靶材通過濺射工藝在半導體晶片表面沉積薄膜，實現對半導體器件導電性 能與電子遷移性能的精準控制。
金屬、合金或氧化物等材料通過濺射工藝沉積在顯示屏的基底上，形 成薄膜，從而調控光學和電學性質。這種定向控制使得顯示屏具備更 好的對比度、顏色鮮艷度以及更快的響應速度。
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